МИКРОЭЛЕКТРОНИКА

 МИКРОЭЛЕКТРОНИКА, Том 32, номер 3, 2003
~
        Технологические процессы
LA rus
TR Процессы релаксации тонких слоев борофосфоросиликатных стекол
   при термически активированном вязком течении на ступенчатом
   рельефе интегральных микросхем. Часть 1. Обобщение результатов
   исследований для изотермических и импульсных режимов нагрева
   слоев стекол
AU В.Ю.Васильев
PP 163
$$
LA rus
TR Локальное электрохимическое анодирование в технологии
   многоуровневых систем межсоединений
AU А.И.Воробьева, В.А.Сокол, В.М.Паркун
PP 177
$$
LA rus
TR Формирование и свойства оксидного слоя на поверхности нитрида
   кремния при его термическом окислении
AU А.Э.Иванчиков, А.М.Кисель, В.И.Плебанович, В.И.Пачинин,
   В.Е.Борисенко
PP 187
$$
LA rus
TR Исследование механизма глубинного анизотропного химического
   травления при формировании объемных микромеханических структур в
   кремнии (100)
AU Л.В.Соколов, С.В.Архипов, В.М.Школьников
PP 194
$$
        Диагностика микроструктуры
LA rus
TR Структурная характеризация двойных квантовых ям
   AlGaAs/GaAs/AlGaAs с тонкими разделяющими AlAs-слоями с помощью
   рентгеновской дифракции
AU А.М.Афанасьев, Г.Б.Галиев, Р.М.Имамов, Е.А.Климов, А.А.Ломов,
   В.Г.Мокеров, В.В.Сарайкин, М.А.Чуев
PP 202
$$
LA rus
TR Количественная диагностика поверхностных дефектов
   полупроводниковых пластин кремния
AU С.Ф.Сенько, А.С.Сенько, В.А.Зеленин, Е.Г.Пуглаченко
PP 210
$$
        Приборы микроэлектроники
LA rus
TR Исследование механизмов преобразования и относительной
   магниточувствительности трехколлекторного биполярного
   магниточувствительного транзистора
AU А.В.Козлов, М.А.Королев, С.Ю.Смирнов, Ю.А.Чаплыгин, Р.Д.Тихонов
PP 219
$$
        Моделирование и испытание интегральных систем
LA rus
TR Структура и свойства коэффициента подобия при фрактальном
   анализе цифровых систем
AU |П.А.Арутюнов|
PP 226
$$
LA rus
TR Логико-динамическое моделирование МОП-структур БИС
AU Л.А.Золоторевич
PP 231
$$
        * * *
LA rus
TR Вниманию авторов
PP 239
$$